在通常情況下，GaN呈（）型結(jié)構(gòu)。

熱處理中氧沉淀的形態(tài)不包括（）

鑄造多晶硅中的氧主要來(lái)源不包括（）

懸浮區(qū)熔的優(yōu)點(diǎn)不包括（）

在光線作用下，能使物體產(chǎn)生一定方向的電動(dòng)勢(shì)的現(xiàn)象稱(chēng)（）

對(duì)于大注入下的直接復(fù)合，非平衡載流子的壽命不再是個(gè)常數(shù)，它與（）。

一塊半導(dǎo)體壽命τ=15µs，光照在材料中會(huì)產(chǎn)生非平衡載流子，光照突然停止30µs后，其中非平衡載流子將衰減到原來(lái)的（）。

屬于晶體缺陷中面缺陷的是（）

改良西門(mén)子法的顯著特點(diǎn)不包括（）

多晶硅的生產(chǎn)方法主要包含：（）1）冶金法2）硅烷法3）重?fù)焦鑿U料提純法4）西門(mén)子改良法5）SiCl4法6）氣液沉淀法7）流化床法