A、11.9MPa
B、21.1MPa
C、47.5MPa
D、45.1MPa
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A、同組3個試件測值中,最大值和最小值與中間值的差值均超過中間值的15%時,該組試件的試驗結果無效。
B、不總是能把同組3個試件測值的平均值作為該組試件的抗壓強度值。
C、同組3個試件測值中,若出現最大值或最小值與中間值的差值超過中間值的15%,則該組試件的試驗結果無效。
D、同組3個試件測值中,最大值或最小值只要有1個且僅有1個與中間值的差值超過中間值的15%,就要把最大值和最小值一并舍除。
A、<C30強度等級的砼加荷速度取每秒12.0~20.0kN
B、≥C30且<C60強度等級的砼加荷速度取每秒20.0~32.0kN
C、≥C60強度等級的砼加荷速度取每秒32.0~40.0kN
D、C25級砼加荷速度取每秒0.3~0.5MPa
A、<C30強度等級的砼加荷速度取每秒0.3~0.5MPa
B、≥C30且<C60強度等級的砼加荷速度取每秒0.5~0.8MPa
C、≥C60強度等級的砼加荷速度取每秒0.8~1.0MPa
D、A、B、C選項都對
A、小于C60強度等級的100×100×100mm立方體試件為0.95
B、小于C60強度等級的200×200×200mm立方體試件為1.05
C、小于C60強度等級的Φ100×200圓柱體試件為0.95
D、不小于C60強度等級的砼應由試驗確定
A、39.0MPa
B、18.2MPa
C、10.2MPa
D、10.8MPa
最新試題
對于同時存在一種施主雜質和一種受主雜質的均勻摻雜的非簡并半導體,在溫度足夠高、ni>>/ND-NA/時,半導體具有()半導體的導電特性。
如在半導體的禁帶中有一個深雜質能級位于禁帶中央,則它對電子的俘獲率()空穴的俘獲率。
屬于晶體缺陷中面缺陷的是()
用能量()禁帶寬度的光子照射p-n結會產生光生伏特效應。
CZ法的主要流程工藝順序正確的是()
下列哪一個遷移率的測量方法適合于低阻材料少子遷移率測量()
改良西門子法的顯著特點不包括()
下列是晶體的是()。
鑄造多晶硅中氫的主要作用包括()
把磷化鎵在氮氣氛中退火,會有氮取代部分的磷,這會在磷化鎵中出現()。