A、內(nèi)部缺陷處的漏磁通,比同樣大小的表面缺陷為大
B、缺陷的漏磁通通常同試件上的磁通密度成反比
C、表面缺陷的漏磁通密度,隨著離開表面距離的增加而急劇減弱
D、用有限線圈磁化長的試件,不需進行分段磁化
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A.缺陷離試件表面越近,形成的漏磁通越小
B.在磁化狀態(tài)、缺陷類型和大小為一定時,其漏磁通密度受缺陷方向影響
C.交流磁化時,近表面缺陷的漏磁通比直流磁化時的漏磁通要小
D.在磁場強度、缺陷類型和大小為一定時,其漏磁通密度受磁化方向影響;
E.除A以外都對
A、與磁化電流的大小無關(guān)
B、與磁化電流的大小有關(guān)
C、當缺陷方向與磁化場方向之間的夾角為零時,漏磁場最大
D、與工件的材料性質(zhì)無關(guān)
A.缺陷方向與磁力線平行時,漏磁場最大
B.漏磁場的大小與工件的磁化程度無關(guān)
C.漏磁場的大小與缺陷的深度和寬度的比值有關(guān)
D.工件表層下,缺陷所產(chǎn)生的漏磁場,隨缺陷的埋藏深度增加而增大
A、它與試件上的磁通密度有關(guān)
B、它與缺陷的高度有關(guān)
C、磁化方向與缺陷垂直時漏磁通最大
D、以上都對
A、磁化強度為一定時,缺陷高度小于1mm的形狀相似的表面缺陷,其漏磁通與缺陷高度無關(guān)
B、缺陷離試件表面越近,缺陷漏磁通越小
C、在磁化狀態(tài)、缺陷種類和大小為一定時,缺陷漏磁通密度受缺陷方向影響
D、交流磁化時,近表面缺陷的漏磁通比直流磁化時要小
E、當磁化強度、缺陷種類和大小為一定時,缺陷處的漏磁通密度受磁化方向的影響
F、c,d和e都對
最新試題
濕法用磁粉粒度一般比干法小。
材料磁導率低(剩磁大)及直流磁化后,退磁磁場換向的次數(shù)(退磁頻率)應(yīng)較多,每次下降的磁場值應(yīng)較小,且每次停留的時間(周期)要略長。
C型靈敏度試片與A型靈敏度試片使用方法相同,只是C型靈敏度試片能用于狹小部位。
一般說來,進行了周向磁化工件的退磁,應(yīng)先進行一次縱向磁化。
用連續(xù)法檢測時,檢測靈敏度不僅與被檢工件表面磁場強度有關(guān),還受被檢工件材質(zhì)的影響。
JB/T4730.4-2005標準規(guī)定:剩磁應(yīng)不大于0.3mT(240A/m)。
磁懸液應(yīng)采用軟管沖淋或浸漬法施加于工件表面。
JB/T4730.4-2005標準規(guī)定:大型工件可使用交流電磁軛進行局部退磁或采用纏繞電纜線圈分段退磁。
根據(jù)JB/T4730.4-2005標準規(guī)定,磁粉檢測前的工件表面準備包括打磨表面、安裝接觸墊、封堵盲孔和涂敷反差增強劑。
干磁粉可采用手動或電動噴粉器以及其他合適的工具來施加,施加時磁粉應(yīng)厚些撒在工件表面上。