多晶硅的生產(chǎn)方法主要包含：（）1）冶金法2）硅烷法3）重摻硅廢料提純法4）西門子改良法5）SiCl4法6）氣液沉淀法7）流化床法

CZ法的主要流程工藝順序正確的是（）

把磷化鎵在氮氣氛中退火，會有氮取代部分的磷，這會在磷化鎵中出現(xiàn)（）。

鑄造多晶硅中的氧主要來源不包括（）

最有效的復(fù)合中心能級位置在Ei附近；最有利陷阱作用的能級位置在（）附近，常見的是少子陷阱。

表面態(tài)中性能級位于費米能級以上時，該表面態(tài)為（）；

可用作硅片的研磨材料是（）

下列哪一個遷移率的測量方法適合于低阻材料少子遷移率測量（）

如果雜質(zhì)既有施主的作用又有受主的作用，則這種雜質(zhì)稱為（）。

屬于晶體缺陷中面缺陷的是（）