A、小于C60強(qiáng)度等級的邊長100mm試件為0.95
B、小于C60強(qiáng)度等級的邊長200mm試件為1.05
C、小于C60強(qiáng)度等級的邊長100mm試件為0.85
D、不小于C60強(qiáng)度等級的砼應(yīng)由試驗(yàn)確定
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A、同組3個試件測值中,最大值和最小值與中間值的差值均超過中間值的15%時(shí),該組試件的試驗(yàn)結(jié)果無效。
B、同組3個試件測值中,最大值和最小值與中間值的差值均超過中間值的10%時(shí),該組試件的試驗(yàn)結(jié)果無效。
C、同組3個試件測值中,最大值和最小值與中間值的差值均超過中間值的20%時(shí),該組試件的試驗(yàn)結(jié)果無效。
D、不總是能把同組3個試件測值的算術(shù)平均值作為該組試件的劈裂抗拉強(qiáng)度值。
A、邊長100mm的C20級砼加荷速度取每秒0.2~0.5kN
B、邊長100mm的C40級砼加荷速度取每秒0.5~0.8kN
C、邊長100mm的C70級砼加荷速度取每秒0.8~1.0kN
D、邊長150mm的C70級砼加荷速度取每秒1.8~2.25kN
A、<C30強(qiáng)度等級的砼加荷速度取每秒0.3~0.5MPa
B、<C30強(qiáng)度等級的砼加荷速度取每秒0.02~0.05MPa
C、≥C60強(qiáng)度等級的砼加荷速度取每秒0.8~1.0MPa
D、≥C60強(qiáng)度等級的砼加荷速度取每秒0.08~0.10MPa
A、試件承壓面
B、試驗(yàn)機(jī)壓板面
C、試件底面
D、試件劈裂面
A、棱柱體劈裂抗拉強(qiáng)度試驗(yàn)方法
B、立方體劈裂抗拉強(qiáng)度試驗(yàn)方法
C、圓柱體劈裂抗拉強(qiáng)度試驗(yàn)方法
D、圓球體劈裂抗拉強(qiáng)度試驗(yàn)方法
最新試題
屬于晶體缺陷中面缺陷的是()
可用作硅片的研磨材料是()
PN結(jié)的基本特性是()
下列哪一個遷移率的測量方法適合于低阻材料少子遷移率測量()
多晶硅的生產(chǎn)方法主要包含:()1)冶金法2)硅烷法3)重?fù)焦鑿U料提純法4)西門子改良法5)SiCl4法6)氣液沉淀法7)流化床法
最有效的復(fù)合中心能級位置在Ei附近;最有利陷阱作用的能級位置在()附近,常見的是少子陷阱。
只涉及到大約一個原子大小范圍的晶格缺陷是()。
原子晶體中的原子與原子之間的鍵能隨原子間距的而迅速()
如果雜質(zhì)既有施主的作用又有受主的作用,則這種雜質(zhì)稱為()。
用能量()禁帶寬度的光子照射p-n結(jié)會產(chǎn)生光生伏特效應(yīng)。