A.咬合不良
B.新義齒造成
C.義齒基托塑料聚合不全
D.牙槽嵴黏膜過敏
E.取模不準(zhǔn)
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A.脫敏治療
B.咬合板改善咬合關(guān)系后冠修復(fù)
C.漂白治療
D.直接樹脂充填
E.RCT后冠修復(fù)
A.遺傳性疾病
B.幼時嚴(yán)重營養(yǎng)障礙
C.嬰兒或母體疾病
D.幼時長期服用四環(huán)素類藥物
E.夜磨牙
A.釉質(zhì)發(fā)育不全
B.四環(huán)素牙
C.遺傳性乳光牙本質(zhì)
D.牙本質(zhì)過敏
E.磨耗
患者,男,缺失,余留牙正常,口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm,如果設(shè)計(jì)鑄造支架可摘局部義齒,設(shè)計(jì)PRI卡環(huán)組。
為減小游離端牙槽嵴負(fù)擔(dān)的措施中,錯誤的是()。
A.選用塑料牙
B.減小人工牙頰舌徑
C.減少人工牙數(shù)目
D.減小基托面積
E.減低人工牙牙尖高度
患者,男,缺失,余留牙正常,口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm,如果設(shè)計(jì)鑄造支架可摘局部義齒,設(shè)計(jì)PRI卡環(huán)組。
大連接體可采用()。
A.舌桿
B.連續(xù)桿
C.帶連續(xù)桿的舌桿
D.舌板
E.唇桿
患者,男,缺失,余留牙正常,口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm,如果設(shè)計(jì)鑄造支架可摘局部義齒,設(shè)計(jì)PRI卡環(huán)組。
取本例患者下頜模型時應(yīng)采用的印模方法是()。
A.解剖式印模
B.靜態(tài)印模
C.無壓力印模
D.功能性印模
E.一次印模
患者,女,50歲,缺失,余牙正常,口底至舌側(cè)牙齦距離為10mm,設(shè)計(jì)鑄造可摘局部義齒修復(fù)。設(shè)計(jì)RPI卡環(huán)組。
如果大連接體采用舌桿,間接固位體最好選()。
A.舌支托
B.切支托
C.附加卡環(huán)
D.放置鄰間溝
E.前牙舌隆突上的連續(xù)桿
患者,女,50歲,缺失,余牙正常,口底至舌側(cè)牙齦距離為10mm,設(shè)計(jì)鑄造可摘局部義齒修復(fù)。設(shè)計(jì)RPI卡環(huán)組。
如果用RPA卡環(huán)組代替RPI卡環(huán)組,則圓環(huán)形卡環(huán)臂的堅(jiān)硬部分應(yīng)位于基牙的()。
A.頰側(cè)近中,觀測線上方的非倒凹區(qū)
B.頰側(cè)近中,觀測線下方的非倒凹區(qū)
C.頰側(cè)遠(yuǎn)中,觀測線上方的非倒凹區(qū)
D.頰側(cè)遠(yuǎn)中,觀測線上緣
E.頰側(cè)遠(yuǎn)中,觀測線下方的倒凹區(qū)
患者,女,50歲,缺失,余牙正常,口底至舌側(cè)牙齦距離為10mm,設(shè)計(jì)鑄造可摘局部義齒修復(fù)。設(shè)計(jì)RPI卡環(huán)組。
基牙預(yù)備時應(yīng)制備出()。
A.近遠(yuǎn)中支托窩
B.近中支托窩,舌側(cè)導(dǎo)平面
C.遠(yuǎn)中支托窩,舌側(cè)導(dǎo)平面
D.近中支托窩,遠(yuǎn)中導(dǎo)平面
E.遠(yuǎn)中支托窩,遠(yuǎn)中導(dǎo)平面
患者鑄造冠修復(fù)2年,反復(fù)脫落,要求重做;
查:遠(yuǎn)中、面銀汞充填,齦距2mm左右,面與對頜牙間隙約1mm,軸壁聚合度約5°,對頜牙中度磨耗,牙片示根充恰填,經(jīng)詢問患者喜歡吃較硬食物。
A.調(diào)磨對頜牙
B.利用髓室固位
C.盡量向下延冠邊緣
D.更換粘結(jié)劑
E.先做樁,再做冠
最新試題
右側(cè)咬食物時義齒脫落,應(yīng)該選磨()。
重做時,可有效防止冠脫落的措施是()。
選擇上前牙的長短主要參考()。
后牙難排出兩條曲線,是指哪種情況的排牙。()
取本例患者下頜模型時應(yīng)采用的印模方法是()。
上前牙的上下定位可依據(jù)()。
全口義齒排牙時,下后牙功能尖盡量排在牙槽嵴頂是指()。
上唇系帶處疼痛的原因是()。
橋體的設(shè)計(jì)應(yīng)選擇()。
全口義齒的前牙排列充分體現(xiàn)患者性別、年齡、個性,使前牙排列更接近于自然牙列是指()。