單項(xiàng)選擇題單個(gè)前牙缺失，唇側(cè)牙槽嵴豐滿時(shí)，應(yīng)考慮（）

A.基托蠟型適當(dāng)變薄
B.基托蠟型適當(dāng)加厚
C.基托蠟型適當(dāng)加大
D.基托蠟型適當(dāng)減小
E.不需要制作唇側(cè)基托


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1.單項(xiàng)選擇題義齒主要為牙支持式，應(yīng)考慮（）

A.基托蠟型適當(dāng)變薄
B.基托蠟型適當(dāng)加厚
C.基托蠟型適當(dāng)加大
D.基托蠟型適當(dāng)減小
E.不需要制作唇側(cè)基托

2.單項(xiàng)選擇題基牙健康狀況較差時(shí)，應(yīng)考慮（）

A.基托蠟型適當(dāng)加大
B.基托蠟型適當(dāng)減小
C.不需要制作唇側(cè)基托
D.基托蠟型適當(dāng)變薄
E.基托蠟型適當(dāng)加厚

3.單項(xiàng)選擇題可摘局部義齒缺牙數(shù)目較少時(shí)，應(yīng)考慮（）

A.基托蠟型適當(dāng)加大
B.基托蠟型適當(dāng)減小
C.不需要制作唇側(cè)基托
D.基托蠟型適當(dāng)變薄
E.基托蠟型適當(dāng)加厚

4.單項(xiàng)選擇題可摘局部義齒缺牙數(shù)目較多時(shí)，應(yīng)考慮（）

A.基托蠟型適當(dāng)加大
B.基托蠟型適當(dāng)減小
C.不需要制作唇側(cè)基托
D.基托蠟型適當(dāng)變薄
E.基托蠟型適當(dāng)加厚

5.單項(xiàng)選擇題義齒主要為黏膜支持式，應(yīng)考慮（）

A.基托蠟型適當(dāng)加大
B.基托蠟型適當(dāng)減小
C.不需要制作唇側(cè)基托
D.基托蠟型適當(dāng)變薄
E.基托蠟型適當(dāng)加厚

6.單項(xiàng)選擇題遠(yuǎn)中游離缺失，或近中基牙的倒凹明顯大于遠(yuǎn)中基牙，觀測模型時(shí)應(yīng)（）

A.向后傾斜
B.向前傾斜
C.向左傾斜
D.向右傾斜
E.不傾斜

7.單項(xiàng)選擇題右側(cè)后牙全部缺失，左側(cè)余留牙舌側(cè)倒凹大，觀測模型時(shí)應(yīng)（）

A.向后傾斜
B.向前傾斜
C.向左傾斜
D.向右傾斜
E.不傾斜

8.單項(xiàng)選擇題前牙缺失，牙槽嵴無倒凹，觀測模型時(shí)應(yīng)（）

A.向后傾斜
B.向前傾斜
C.向左傾斜
D.向右傾斜
E.不傾斜

9.單項(xiàng)選擇題前牙缺失，牙槽嵴豐滿，倒凹大，觀測模型時(shí)應(yīng)（）

A.向后傾斜
B.向前傾斜
C.向左傾斜
D.向右傾斜
E.不傾斜

10.單項(xiàng)選擇題上頜兩側(cè)磨牙全部缺失，設(shè)計(jì)支架式可摘義齒修復(fù)，為防止義齒下沉壓迫黏膜，制作時(shí)要求（）

A.腭桿中部與模型應(yīng)有0.8～1mm距離
B.腭桿中部與模型應(yīng)有1.2～1.5mm距離
C.腭桿中部與模型應(yīng)有0.1mm距離
D.腭桿中部與模型應(yīng)有0.3～0.5mm距離
E.腭桿中部與模型應(yīng)完全貼合