A.人工牙與對頜牙有良好的牙合關(guān)系
B.人工牙頰舌徑寬度較天然牙小
C.人工牙舌側(cè)不應(yīng)有鄰間隙
D.基托厚度約2mm,表面光滑
E.基托唇頰面應(yīng)模仿牙齦突度外形舌側(cè)呈凹斜面形
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A.基托進(jìn)入倒凹區(qū)
B.組織面不光滑
C.卡環(huán)過緊
D.牙合支托位置不當(dāng)
E.義齒變形
A.卡環(huán)臂應(yīng)放在基牙的倒凹區(qū)
B.應(yīng)避免反復(fù)彎曲和扭轉(zhuǎn)卡環(huán)絲
C.卡環(huán)絲必須與牙面緊密接觸
D.連接體的升部和降部應(yīng)與牙軸面平行,不能深入基牙的倒凹區(qū)
E.牙間卡環(huán)在牙間溝內(nèi)部分應(yīng)與基牙密切貼合
A.應(yīng)與天然牙軸面的倒凹區(qū)輕輕接觸
B.上頜遠(yuǎn)中游離者應(yīng)伸至翼下頜切跡,遠(yuǎn)中頰角應(yīng)覆蓋上頜結(jié)節(jié)
C.下頜遠(yuǎn)中游離者應(yīng)覆蓋磨牙后墊1/3~1/2
D.缺牙區(qū)若骨質(zhì)缺損應(yīng)當(dāng)擴(kuò)大,若有骨突應(yīng)適當(dāng)縮小或作緩沖
E.缺牙多應(yīng)適當(dāng)大些,反之應(yīng)小些
A.2.5mm
B.2mm
C.1.5mm
D.1mm
E.0.5mm
A.1/2
B.1/3
C.1/4
D.2/3
E.3/4
A.近缺隙側(cè)大,遠(yuǎn)缺隙側(cè)小
B.近缺隙側(cè)小,遠(yuǎn)缺隙側(cè)大
C.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都小
D.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都大
E.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)相等
A.放置附著體的基牙冠修復(fù)后,為增加附著體的強(qiáng)度可增寬牙冠的頰舌徑
B.冠內(nèi)附著體與其他固位體可聯(lián)合使用
C.栓道的底部即起到常規(guī)義齒中牙合支托窩的作用
D.如義齒需采用兩個或兩個以上冠內(nèi)附著體,必須使各冠內(nèi)附著體栓道軸壁間有共同就位道
E.冠內(nèi)附著體可用于修復(fù)游離端牙列缺損的患者
A.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽性結(jié)構(gòu)接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽性結(jié)構(gòu)接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側(cè)壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結(jié)構(gòu)即栓道的軸壁形態(tài)對固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過程中,附著體預(yù)成品,通過包埋、鑄造、研磨等工序,會影響附著體陰型結(jié)構(gòu)和陽型結(jié)構(gòu)的密合度,影響附著體固位
A.2mm
B.3mm
C.1.5mm
D.2.5mm
E.桿與黏膜緊密接觸
A.腭護(hù)板可以戴到正式義頜完成時
B.腭護(hù)板戴入后,一般不需要修改
C.腭護(hù)板戴入后,白天、夜間均要戴
D.腭護(hù)板可在外科手術(shù)后6~10天制作
E.腭護(hù)板可以周期性添加暫襯材料
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對可摘局部義齒基托功能的敘述,不正確的是()。
全口義齒基托需要緩沖的地方是()。
磁性附著體屬于()。
光接觸修復(fù)體表面,當(dāng)光的入射角為多少度時,光的反射量最大?()
取戴義齒時痛,應(yīng)()。
全冠粘固較長時間后出現(xiàn)疼痛,其主要原因不包括()。
患者采用固定義齒修復(fù),若缺牙間隙大于同名牙,可采取的符合美學(xué)的措施為()。
冠外附著體的基牙牙冠齦距大于()。
Kennedy第一類缺失,基牙向遠(yuǎn)中傾斜。擬用可摘局部牙齒修復(fù),義齒戴入的方向是()。
鑄造金屬全冠與烤瓷熔附金屬全冠修復(fù)體比較,最主要的優(yōu)點(diǎn)為()。