單項(xiàng)選擇題可摘局部義齒基托伸展的范圍，下列錯(cuò)誤的是（）

A.應(yīng)與天然牙軸面的倒凹區(qū)輕輕接觸
B.上頜遠(yuǎn)中游離者應(yīng)伸至翼下頜切跡，遠(yuǎn)中頰角應(yīng)覆蓋上頜結(jié)節(jié)
C.下頜遠(yuǎn)中游離者應(yīng)覆蓋磨牙后墊1／3～1/2
D.缺牙區(qū)若骨質(zhì)缺損應(yīng)當(dāng)擴(kuò)大，若有骨突應(yīng)適當(dāng)縮小或作緩沖
E.缺牙多應(yīng)適當(dāng)大些，反之應(yīng)小些


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1.單項(xiàng)選擇題鑄造可摘局部義齒的金屬基托厚度一般約為（）

A.2.5mm
B.2mm
C.1.5mm
D.1mm
E.0.5mm

2.單項(xiàng)選擇題牙合支托長(zhǎng)度應(yīng)為磨牙牙合面近遠(yuǎn)中徑的（）

A.1/2
B.1／3
C.1／4
D.2/3
E.3/4

3.單項(xiàng)選擇題Ⅰ型觀測(cè)線在基牙上形成的倒凹區(qū)（）

A.近缺隙側(cè)大，遠(yuǎn)缺隙側(cè)小
B.近缺隙側(cè)小，遠(yuǎn)缺隙側(cè)大
C.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都小
D.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都大
E.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)相等

4.單項(xiàng)選擇題冠內(nèi)附著體義齒設(shè)計(jì)與制作的要點(diǎn)，錯(cuò)誤的是（）

A.放置附著體的基牙冠修復(fù)后，為增加附著體的強(qiáng)度可增寬牙冠的頰舌徑
B.冠內(nèi)附著體與其他固位體可聯(lián)合使用
C.栓道的底部即起到常規(guī)義齒中牙合支托窩的作用
D.如義齒需采用兩個(gè)或兩個(gè)以上冠內(nèi)附著體，必須使各冠內(nèi)附著體栓道軸壁間有共同就位道
E.冠內(nèi)附著體可用于修復(fù)游離端牙列缺損的患者

5.單項(xiàng)選擇題下列關(guān)于冠內(nèi)附著體固位與穩(wěn)定的敘述，錯(cuò)誤的是（）

A.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側(cè)壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結(jié)構(gòu)即栓道的軸壁形態(tài)對(duì)固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過(guò)程中，附著體預(yù)成品，通過(guò)包埋、鑄造、研磨等工序，會(huì)影響附著體陰型結(jié)構(gòu)和陽(yáng)型結(jié)構(gòu)的密合度，影響附著體固位

6.單項(xiàng)選擇題桿卡式覆蓋義齒底部應(yīng)與黏膜間保持多少以上間隙，以獲得良好的自潔作用（）

A.2mm
B.3mm
C.1.5mm
D.2.5mm
E.桿與黏膜緊密接觸

7.單項(xiàng)選擇題下列敘述中不正確的是（）

A.腭護(hù)板可以戴到正式義頜完成時(shí)
B.腭護(hù)板戴入后，一般不需要修改
C.腭護(hù)板戴入后，白天、夜間均要戴
D.腭護(hù)板可在外科手術(shù)后6～10天制作
E.腭護(hù)板可以周期性添加暫襯材料

8.單項(xiàng)選擇題關(guān)于腭護(hù)板，下列敘述錯(cuò)誤的是（）

A.腭護(hù)板是在手術(shù)前制取的上頜模型上預(yù)制的
B.腭護(hù)板不應(yīng)進(jìn)入缺損腔
C.腭護(hù)板應(yīng)覆蓋并略超過(guò)手術(shù)后的整個(gè)缺損腔
D.傷口愈合前缺損側(cè)后牙應(yīng)恢復(fù)牙合關(guān)系
E.腭護(hù)板應(yīng)形成正常的腭輪廓

9.單項(xiàng)選擇題中空義齒是指（）

A.下頜骨缺損的牙合導(dǎo)板
B.上頜骨缺損部的阻塞器義齒
C.唇腭裂序列治療的語(yǔ)音訓(xùn)練器
D.腭、咽部損部的阻塞器
E.顏面部缺損贗復(fù)體

10.單項(xiàng)選擇題磁性附著體固位的覆蓋義齒優(yōu)點(diǎn)是（）

A.提高咀嚼效率
B.縮短患者適應(yīng)義齒時(shí)間
C.提高義齒固位力
D.義齒基托可適當(dāng)減小利于發(fā)音
E.以上都對(duì)