A.近缺隙側(cè)大,遠(yuǎn)缺隙側(cè)小
B.近缺隙側(cè)小,遠(yuǎn)缺隙側(cè)大
C.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都小
D.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)都大
E.近缺隙側(cè)和遠(yuǎn)缺隙側(cè)相等
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你可能感興趣的試題
A.放置附著體的基牙冠修復(fù)后,為增加附著體的強(qiáng)度可增寬牙冠的頰舌徑
B.冠內(nèi)附著體與其他固位體可聯(lián)合使用
C.栓道的底部即起到常規(guī)義齒中牙合支托窩的作用
D.如義齒需采用兩個(gè)或兩個(gè)以上冠內(nèi)附著體,必須使各冠內(nèi)附著體栓道軸壁間有共同就位道
E.冠內(nèi)附著體可用于修復(fù)游離端牙列缺損的患者
A.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側(cè)壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結(jié)構(gòu)即栓道的軸壁形態(tài)對(duì)固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過程中,附著體預(yù)成品,通過包埋、鑄造、研磨等工序,會(huì)影響附著體陰型結(jié)構(gòu)和陽(yáng)型結(jié)構(gòu)的密合度,影響附著體固位
A.2mm
B.3mm
C.1.5mm
D.2.5mm
E.桿與黏膜緊密接觸
A.腭護(hù)板可以戴到正式義頜完成時(shí)
B.腭護(hù)板戴入后,一般不需要修改
C.腭護(hù)板戴入后,白天、夜間均要戴
D.腭護(hù)板可在外科手術(shù)后6~10天制作
E.腭護(hù)板可以周期性添加暫襯材料
A.腭護(hù)板是在手術(shù)前制取的上頜模型上預(yù)制的
B.腭護(hù)板不應(yīng)進(jìn)入缺損腔
C.腭護(hù)板應(yīng)覆蓋并略超過手術(shù)后的整個(gè)缺損腔
D.傷口愈合前缺損側(cè)后牙應(yīng)恢復(fù)牙合關(guān)系
E.腭護(hù)板應(yīng)形成正常的腭輪廓
A.下頜骨缺損的牙合導(dǎo)板
B.上頜骨缺損部的阻塞器義齒
C.唇腭裂序列治療的語(yǔ)音訓(xùn)練器
D.腭、咽部損部的阻塞器
E.顏面部缺損贗復(fù)體
A.提高咀嚼效率
B.縮短患者適應(yīng)義齒時(shí)間
C.提高義齒固位力
D.義齒基托可適當(dāng)減小利于發(fā)音
E.以上都對(duì)
A.剛性附著體、非剛性附著體
B.根上附著體、根內(nèi)附著體
C.桿附著體、磁性附著體
D.剛性附著體、非剛性附著體、彈性附著體
E.彈性附著體、磁性附著體
A.覆蓋義齒基牙可分為有金屬頂蓋和無(wú)金屬頂蓋基牙
B.無(wú)金屬頂蓋覆蓋義齒制作簡(jiǎn)便
C.有金屬頂蓋覆蓋義齒可預(yù)防基牙過敏
D.對(duì)齲易感者盡量采用無(wú)金屬頂蓋覆蓋義齒
E.雙層頂蓋有緩沖咬合力作用
A.覆蓋的基牙易齲壞
B.覆蓋基牙易發(fā)生牙齦炎癥
C.覆蓋的牙槽嵴易發(fā)生骨質(zhì)吸收
D.義齒制作困難
E.在基牙上安放附著體費(fèi)用較多
最新試題
可摘局部義齒的游離端發(fā)生不穩(wěn)定的表現(xiàn),不包括()。
先制取初印模后,在初印模上均勻去出一層印模材料,然后再制取終印模是()。
有關(guān)前牙金瓷冠牙體預(yù)備的要求,正確的是()。
在沒有軟組織功能變形的狀況下制取的印模是()。
套筒冠義齒的適應(yīng)證不包括()。
患者采用固定義齒修復(fù),若缺牙間隙大于同名牙,可采取的符合美學(xué)的措施為()。
附著體義齒的組成部分不包括()。
利用內(nèi)外兩層冠之間摩擦力固位的是()。
冠外附著體的基牙牙冠齦距大于()。
下列關(guān)于全口義齒磨光面的敘述,錯(cuò)誤的是()。