單項(xiàng)選擇題砂漿回彈法不適用于砂漿強(qiáng)度小于()的墻體,水平灰縫表面粗糙且難以磨平時(shí),不得采用。
A.2MPa
B.2.5MPa
C.3MPa
D.4MPa
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
1.單項(xiàng)選擇題推出法不宜用于當(dāng)水平灰縫的砂漿飽滿度低于()的墻體。
A.55%
B.60%
C.65%
D.70%
2.單項(xiàng)選擇題切制抗壓試件法取樣部位每側(cè)的墻體寬度不應(yīng)小于(),且應(yīng)為墻體長(zhǎng)度方向的中部或受力較小處。
A.1m
B.1.5m
C.1.8m
D.2m
3.單項(xiàng)選擇題扁頂法不適用于測(cè)試墻體破壞荷載大于()KN的墻體。
A.300
B.350
C.400
D.450
4.單項(xiàng)選擇題原位軸壓法僅限用于()厚的磚墻。
A.200mm
B.220mm
C.240mm
D.280mm
5.單項(xiàng)選擇題砌體工程的現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)方法,檢測(cè)砌體工作應(yīng)力、彈性模量可采用()。
A.點(diǎn)荷法
B.回彈法
C.筒壓法
D.扁頂法
最新試題
如果雜質(zhì)既有施主的作用又有受主的作用,則這種雜質(zhì)稱為()。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
那個(gè)不是影響直拉單晶硅的電阻率均勻性的因素()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
硅片拋光在原理上不可分為()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
最有效的復(fù)合中心能級(jí)位置在Ei附近;最有利陷阱作用的能級(jí)位置在()附近,常見(jiàn)的是少子陷阱。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
屬于晶體缺陷中面缺陷的是()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
可用作硅片的研磨材料是()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
在光線作用下,能使物體產(chǎn)生一定方向的電動(dòng)勢(shì)的現(xiàn)象稱()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
光子傳感器是利用某些半導(dǎo)體材料在入射光的照下,產(chǎn)生().使材料的電學(xué)性質(zhì)發(fā)生變化。通過(guò)測(cè)量電學(xué)性質(zhì)的變化,可以知道紅外輻射的強(qiáng)弱。光子效應(yīng)所制成的紅外探測(cè)器。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
多晶硅的生產(chǎn)方法主要包含:()1)冶金法2)硅烷法3)重?fù)焦鑿U料提純法4)西門子改良法5)SiCl4法6)氣液沉淀法7)流化床法
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
下列哪一個(gè)遷移率的測(cè)量方法適合于低阻材料少子遷移率測(cè)量()
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題