問(wèn)答題簡(jiǎn)述滲透探傷方法的選擇原則。
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1.問(wèn)答題寫(xiě)出VC-S滲透探傷的工藝流程。
3.單項(xiàng)選擇題JB4730-94標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定非熒光磁粉，每100毫升磁懸液沉淀體積為（）。
A.0.2～1.2毫升
B.0.1～0.5毫升
C.1.2～2.4毫升
D.2.2～3.4毫升
4.單項(xiàng)選擇題JB4730-94標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定磁軛的磁極間距應(yīng)控制在（）。
A.75—250mm
B.50—200mm
C.80—300mm
D.以上均可
最新試題
下面哪種因素會(huì)改變趨膚效應(yīng)（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
分析底片上出現(xiàn)白色（黑度低于周圍焊縫或母材的黑度）缺陷影像的原因？
題型：?jiǎn)柎痤}
阻抗圖中，實(shí)線曲線是什么值不同的曲線（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
交流電流在試驗(yàn)物體中產(chǎn)生渦流。矢量Hs代表試件中的二次交變磁場(chǎng)，只有具有哪種作用渦流檢驗(yàn)才有意義（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
下面哪種是圍繞線圈在一個(gè)均勻的導(dǎo)體中感應(yīng)出的渦流的一個(gè)性質(zhì)（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
什么叫做試驗(yàn)線圈的視在阻抗？它在渦流檢測(cè)中有何作用？
題型：?jiǎn)柎痤}
通過(guò)一次線圈的交流電產(chǎn)生一個(gè)磁場(chǎng)并在棒材中產(chǎn)生渦流，二次線圈的電壓取決于（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
渦流的響應(yīng)（）。
題型：?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
造成相同的x射線機(jī)曝光曲線不完全相同的原因是什么？
題型：?jiǎn)柎痤}
新置的Ir192γ射線源，其活度為40Ci，現(xiàn)今時(shí)隔300天，已知，Ir192γ射線源的半衰期為75天。求該源現(xiàn)在的活度？該源新置時(shí)，對(duì)某工件進(jìn)行射線照相的曝光時(shí)間為4min，若所有條件不變，現(xiàn)今應(yīng)曝光多少分鐘？
題型：?jiǎn)柎痤}