加熱爐爐膛置換一般采用（）。

合成氨轉(zhuǎn)化的助燃劑為（）。

低變爐開始還原時無需進(jìn)行試配氫。

合成氨轉(zhuǎn)化加熱爐的形式為（）。

冷換設(shè)備投用時先通高溫介質(zhì)再通低溫介質(zhì)。

低變催化劑超溫?zé)Y(jié)的原因只有進(jìn)口CO含量過高。

加氫槽的作用是將有機硫轉(zhuǎn)化為無機硫。

當(dāng)F.T尾氣中不飽和烴含量≤0.4%時，可以通過提高水碳比來防止觸媒析碳。

膜分離裝置是利用各種氣體在膜中的溶解度和擴散系數(shù)不同，來達(dá)到分離。

合成廢鍋連排主要是排放廢鍋中的顆粒等比較大的雜質(zhì)。