氮?dú)庵脫Q時(shí)必須單點(diǎn)排放，反復(fù)進(jìn)行幾次，直到置換合格。

低變催化劑超溫?zé)Y(jié)的原因只有進(jìn)口CO含量過(guò)高。

低變爐開(kāi)始還原時(shí)無(wú)需進(jìn)行試配氫。

在通常的甲烷化系統(tǒng)操作條件下，每1％的二氧化碳轉(zhuǎn)化的絕熱溫升是（）℃。

氨合成塔阻力降應(yīng)控制在100KPa以?xún)?nèi)。

原料氣中配入蒸汽時(shí)，無(wú)需考慮蒸汽純度。

換熱式轉(zhuǎn)化爐反應(yīng)所需熱量來(lái)自加熱爐和二段爐的高溫氣體。

膜分離裝置是利用各種氣體在膜中的溶解度和擴(kuò)散系數(shù)不同，來(lái)達(dá)到分離。

轉(zhuǎn)化和中低變一起（）循環(huán)升溫。

增加空速可增加合成氨產(chǎn)量，因此空速越大越好。