中低變可進(jìn)行單獨(dú)氮?dú)庋h(huán)升溫。

膜分離裝置是利用各種氣體在膜中的溶解度和擴(kuò)散系數(shù)不同，來達(dá)到分離。

CH4在膜中滲透率大于H2。

加熱爐爐膛置換一般采用（）。

合成氨轉(zhuǎn)化加熱爐的形式為（）。

在壓縮機(jī)運(yùn)行過程中活塞桿的摩擦部位溫度應(yīng)小于100℃

放硫結(jié)束的標(biāo)志是出口氣體中H2S〈（）ppm。

轉(zhuǎn)化廢鍋產(chǎn)的2.5MPa的蒸汽用于轉(zhuǎn)化系統(tǒng)調(diào)節(jié)水碳比。

甲烷化的（）和提氫氣混合經(jīng)中變氣加熱后進(jìn)入甲烷化爐。

當(dāng)切斷冰機(jī)主電機(jī)電源后，可以立即停止向油冷器供冷卻劑。