甲烷化的（）和提氫氣混合經(jīng)中變氣加熱后進(jìn)入甲烷化爐。

膜分離裝置是利用各種氣體在膜中的溶解度和擴(kuò)散系數(shù)不同，來(lái)達(dá)到分離。

換熱式轉(zhuǎn)化爐反應(yīng)所需熱量來(lái)自加熱爐和二段爐的高溫氣體。

調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)化氣廢鍋旁路管線(xiàn)可以控制中變爐入口溫度。

在通常的甲烷化系統(tǒng)操作條件下，每1％的二氧化碳轉(zhuǎn)化的絕熱溫升是（）℃。

合成氨轉(zhuǎn)化加熱爐的形式為（）。

氮?dú)庵脫Q時(shí)必須單點(diǎn)排放，反復(fù)進(jìn)行幾次，直到置換合格。

正常操作時(shí)，只要床溫正常，氧含量超標(biāo)也不用調(diào)整。

氨合成塔阻力降應(yīng)控制在100KPa以?xún)?nèi)。

在高壓下進(jìn)行合成氨反應(yīng)，有利于反應(yīng)的平衡向生成氨的方向移動(dòng)。