A.上唇系帶附著過(guò)高
B.上唇系帶過(guò)長(zhǎng)
C.基托在上唇系帶處緩沖不足
D.基托在上唇系帶處太厚
E.基托在上唇系帶處不密合
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A.調(diào)緩沖
B.重襯
C.重做
D.不處理
E.組織面緩沖處理
A.咬合不良
B.新義齒造成
C.義齒基托塑料聚合不全
D.牙槽嵴黏膜過(guò)敏
E.取模不準(zhǔn)
A.脫敏治療
B.咬合板改善咬合關(guān)系后冠修復(fù)
C.漂白治療
D.直接樹(shù)脂充填
E.RCT后冠修復(fù)
A.遺傳性疾病
B.幼時(shí)嚴(yán)重營(yíng)養(yǎng)障礙
C.嬰兒或母體疾病
D.幼時(shí)長(zhǎng)期服用四環(huán)素類(lèi)藥物
E.夜磨牙
A.釉質(zhì)發(fā)育不全
B.四環(huán)素牙
C.遺傳性乳光牙本質(zhì)
D.牙本質(zhì)過(guò)敏
E.磨耗
患者,男,缺失,余留牙正常,口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm,如果設(shè)計(jì)鑄造支架可摘局部義齒,設(shè)計(jì)PRI卡環(huán)組。
為減小游離端牙槽嵴負(fù)擔(dān)的措施中,錯(cuò)誤的是()。
A.選用塑料牙
B.減小人工牙頰舌徑
C.減少人工牙數(shù)目
D.減小基托面積
E.減低人工牙牙尖高度
患者,男,缺失,余留牙正常,口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm,如果設(shè)計(jì)鑄造支架可摘局部義齒,設(shè)計(jì)PRI卡環(huán)組。
大連接體可采用()。
A.舌桿
B.連續(xù)桿
C.帶連續(xù)桿的舌桿
D.舌板
E.唇桿
患者,男,缺失,余留牙正常,口底距舌側(cè)齦緣的距離為4mm,如果設(shè)計(jì)鑄造支架可摘局部義齒,設(shè)計(jì)PRI卡環(huán)組。
取本例患者下頜模型時(shí)應(yīng)采用的印模方法是()。
A.解剖式印模
B.靜態(tài)印模
C.無(wú)壓力印模
D.功能性印模
E.一次印模
患者,女,50歲,缺失,余牙正常,口底至舌側(cè)牙齦距離為10mm,設(shè)計(jì)鑄造可摘局部義齒修復(fù)。設(shè)計(jì)RPI卡環(huán)組。
如果大連接體采用舌桿,間接固位體最好選()。
A.舌支托
B.切支托
C.附加卡環(huán)
D.放置鄰間溝
E.前牙舌隆突上的連續(xù)桿
患者,女,50歲,缺失,余牙正常,口底至舌側(cè)牙齦距離為10mm,設(shè)計(jì)鑄造可摘局部義齒修復(fù)。設(shè)計(jì)RPI卡環(huán)組。
如果用RPA卡環(huán)組代替RPI卡環(huán)組,則圓環(huán)形卡環(huán)臂的堅(jiān)硬部分應(yīng)位于基牙的()。
A.頰側(cè)近中,觀測(cè)線(xiàn)上方的非倒凹區(qū)
B.頰側(cè)近中,觀測(cè)線(xiàn)下方的非倒凹區(qū)
C.頰側(cè)遠(yuǎn)中,觀測(cè)線(xiàn)上方的非倒凹區(qū)
D.頰側(cè)遠(yuǎn)中,觀測(cè)線(xiàn)上緣
E.頰側(cè)遠(yuǎn)中,觀測(cè)線(xiàn)下方的倒凹區(qū)
最新試題
前牙排成大覆蓋(水平開(kāi))常用于哪種情況的排牙。()
欲加強(qiáng)固位體的固位力,無(wú)效的方法是()。
因處理不當(dāng)導(dǎo)致患者咳嗽或吹氣時(shí)上總義齒易于脫落的區(qū)是()。
可能引起左側(cè)頰部咬出血腫的原因,下列各項(xiàng)除外()。
若患者兩側(cè)同時(shí)多數(shù)牙缺失,義齒連接方式可采用()。
治療方案可選擇()。
脫落的主要原因是()。
取本例患者下頜模型時(shí)應(yīng)采用的印模方法是()。
為減小游離端牙槽嵴負(fù)擔(dān)的措施中,錯(cuò)誤的是()。
擬診。()