單項選擇題使?fàn)t內(nèi)升溫和保持恒溫的裝置是()。
A.爐膛
B.真空裝置
C.產(chǎn)熱及調(diào)溫裝置
D.顯示窗
E.鍵盤
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1.單項選擇題真空烤瓷爐對其溫度參數(shù)和時間參數(shù)進行精密的控制。在使用中要求操作人員按嚴(yán)格的程序進行操作。真空烤瓷爐的溫度參數(shù)和時間參數(shù)主要包括()。
A.預(yù)熱溫度,烤瓷溫度,預(yù)熱時間,烤瓷時間,最終溫度持續(xù)時間
B.預(yù)熱溫度,烤瓷溫度,預(yù)熱時間,烤瓷時間,最終溫度持續(xù)時間,真空烤瓷時間
C.現(xiàn)時溫度,烤瓷溫度,預(yù)熱時間,烤瓷時間,最終溫度持續(xù)時間,真空烤瓷時間
D.現(xiàn)時溫度,最終溫度,預(yù)熱時間,升溫時間,最終溫度持續(xù)時間,真空烤瓷時間
E.現(xiàn)時溫度,最終溫度,預(yù)熱時間,烤瓷時間,最終溫度持續(xù)時間,真空烤瓷時間
2.單項選擇題真空烤瓷爐對其溫度參數(shù)和時間參數(shù)進行精密的控制。在使用中要求操作人員按嚴(yán)格的程序進行操作。在烤瓷過程中有一道工藝叫上釉,上釉有兩種方法:自行上釉和分別上釉,其中自行上釉要求把燒好的瓷體在高于體瓷燒熔溫度下保持?jǐn)?shù)分鐘,高于體瓷燒熔溫度的范圍是()。
A.31~40℃
B.21~30℃
C.10℃以內(nèi)
D.11~20℃
E.5℃
3.單項選擇題真空烤瓷爐對其溫度參數(shù)和時間參數(shù)進行精密的控制。在使用中要求操作人員按嚴(yán)格的程序進行操作。在烤瓷過程中不能使烤瓷件與爐膛內(nèi)壁接觸,如果接觸,可能造成的最嚴(yán)重的后果是()。
A.烤瓷失敗
B.烤瓷失敗,烤瓷件報廢
C.烤瓷件與爐膛內(nèi)壁發(fā)生粘連
D.爐膛報廢
E.發(fā)熱體損壞
4.單項選擇題高頻離心鑄造機操作時應(yīng)注意。接通電源,開機預(yù)熱時間為()。
A.1~2min
B.3~4min
C.5~10min
D.11~15min
E.16~20min
5.單項選擇題高頻離心鑄造機操作時應(yīng)注意。使用設(shè)備的相對濕度應(yīng)小于()。
A.25%
B.30%
C.50%
D.60%
E.75%