單項(xiàng)選擇題真空烤瓷爐對(duì)其溫度參數(shù)和時(shí)間參數(shù)進(jìn)行精密的控制。在使用中要求操作人員按嚴(yán)格的程序進(jìn)行操作。在烤瓷過程中有一道工藝叫上釉，上釉有兩種方法：自行上釉和分別上釉，其中自行上釉要求把燒好的瓷體在高于體瓷燒熔溫度下保持?jǐn)?shù)分鐘，高于體瓷燒熔溫度的范圍是（）。
A.31～40℃
B.21～30℃
C.10℃以內(nèi)
D.11～20℃
E.5℃
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1.單項(xiàng)選擇題真空烤瓷爐對(duì)其溫度參數(shù)和時(shí)間參數(shù)進(jìn)行精密的控制。在使用中要求操作人員按嚴(yán)格的程序進(jìn)行操作。在烤瓷過程中不能使烤瓷件與爐膛內(nèi)壁接觸，如果接觸，可能造成的最嚴(yán)重的后果是（）。
A.烤瓷失敗
B.烤瓷失敗，烤瓷件報(bào)廢
C.烤瓷件與爐膛內(nèi)壁發(fā)生粘連
D.爐膛報(bào)廢
E.發(fā)熱體損壞
2.單項(xiàng)選擇題高頻離心鑄造機(jī)操作時(shí)應(yīng)注意。接通電源，開機(jī)預(yù)熱時(shí)間為（）。
A.1～2min
B.3～4min
C.5～10min
D.11～15min
E.16～20min
3.單項(xiàng)選擇題高頻離心鑄造機(jī)操作時(shí)應(yīng)注意。使用設(shè)備的相對(duì)濕度應(yīng)小于（）。
A.25％
B.30％
C.50％
D.60％
E.75％
4.單項(xiàng)選擇題高頻離心鑄造機(jī)操作時(shí)應(yīng)注意使用設(shè)備的環(huán)境溫度為（）。
A.0～2℃
B.3～4℃
C.36～40℃
D.5～35℃
E.40℃以上
5.單項(xiàng)選擇題超聲波清洗機(jī)操作使用中應(yīng)注意。連續(xù)清洗一般不應(yīng)超過（）。
A.10min
B.8min
C.6min
D.5min
E.2min
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