人工牙排列要有平衡的主要原因()
A.使接觸面積廣
B.使咀嚼效率高
C.使義齒穩(wěn)定
D.使義齒看起來美觀
E.糾正偏側(cè)咀嚼習(xí)慣
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A.初印模
B.加壓印模
C.閉合式印模
D.解剖式印模
E.功能性印模
A.向上、向后
B.向上、向外
C.向上、向內(nèi)
D.向后、向外
E.向上、向前
A.與磨牙后墊的前緣等高
B.與磨牙后墊的1/3等高
C.與磨牙后墊的1/2等高
D.與磨牙后墊的2/3等高
E.與磨牙后墊的后緣等高
A.1mm處
B.2mm處
C.3mm處
D.4mm處
E.5mm處
A.應(yīng)在上下唇系帶處制作后堤區(qū)
B.上頜硬區(qū)應(yīng)制作后堤區(qū)
C.上頜后堤區(qū)位于口腔前庭溝內(nèi)
D.上頜后堤區(qū)是上頜全口義齒后緣封閉區(qū)
E.頰棚區(qū)也稱為后堤區(qū)
最新試題
種植義齒的壽命應(yīng)至少在口腔內(nèi)持續(xù)使用超過()。
樁冠修復(fù)的時(shí)機(jī),應(yīng)在完善的根管治療后至少多長(zhǎng)時(shí)間才能進(jìn)行()。
對(duì)于基托磨光面的要求,下列哪項(xiàng)是錯(cuò)誤的()。
下列哪項(xiàng)不屬于義齒的不穩(wěn)定因素()。
進(jìn)食說話時(shí),后牙碰撞的原因是()。
腭側(cè)基托應(yīng)設(shè)計(jì)到()。
雙側(cè)磨牙游離缺失的可摘局部義齒,末端基牙常用的卡環(huán)是()。
前牙3/4冠鄰面預(yù)備時(shí)下面哪一項(xiàng)是錯(cuò)誤的()。
為消除可摘局部義齒不穩(wěn)定,錯(cuò)誤的方法是()。
下頜全口義齒基托邊緣不宜伸展的區(qū)域是()。