用大規(guī)模的集成電路的光刻技術加工而成的二元化器件。
通過對掩膜片基上的感光膠片進行有控制的曝光和顯影獲得
圖形曝光和圖形蝕刻。
當兩塊薄的絲綢織物疊在一起時,可以看到一種不規(guī)則的花紋,后來人們將兩組條紋疊加在一起所產生的圖形稱為莫爾條紋
刻線是以圓心為中心的輻射狀光柵,刻線數(shù)通常為360倍數(shù),相鄰兩刻線之間的夾角稱為柵角r
最新試題
謂徑向圓盤光柵
二元光學
陰影莫爾法
半色調網(wǎng)屏
掃描莫爾
阿貝成像理論
二元光學元件
空間濾波系統(tǒng)
單頻線寬
莫爾條紋