A.還原劑
B.抑制劑
C.保護(hù)劑
D.促進(jìn)劑
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A.碳酸鈉
B.米吐爾
C.溴化鉀
D.氫氧化鈉
A.寬度還算均勻的黑色條紋
B.黑色陰影
C.枝狀黑色花紋
D.兩端尖銳帶彎曲的黑色條紋
A.點(diǎn)狀?yuàn)A渣
B.焊瘤
C.氣孔
D.點(diǎn)狀合金
A.氣孔內(nèi)有空氣
B.氣孔表面光滑
C.氣孔發(fā)射反射波
D.氣孔聚集反射波
A.調(diào)節(jié)水的粘度
B.加大浸潤(rùn)能力
C.排除水中氣流
D.防止試件生銹
最新試題
分辯率可使用通用探傷儀進(jìn)行測(cè)量,測(cè)試時(shí)儀器抑制置“零”或“開”位,必要時(shí)可加匹配線圈。
對(duì)于橫波斜探頭而言,不同K值的探頭的靈敏度不同,因此探頭K值偏差也會(huì)影響缺陷的定量。
衍射時(shí)差法對(duì)缺陷檢出率高,超聲波束覆蓋區(qū)域大,缺陷高度測(cè)量精確,實(shí)時(shí)成像,快速分析。
當(dāng)工件內(nèi)應(yīng)力與波的傳播方向一致時(shí),若應(yīng)力為壓縮應(yīng)力,則應(yīng)力作用會(huì)使工件彈性增加,導(dǎo)致聲速減慢。
當(dāng)探頭與被檢工件表面耦合狀態(tài)不同時(shí),而又沒有進(jìn)行適當(dāng)?shù)难a(bǔ)償,會(huì)使定量誤差增加,精度下降。
高溫探頭前面殼體與晶片之間采用特殊釬焊,使之形成高溫耦合層。
儀器時(shí)基線比例一般在試塊上調(diào)節(jié),當(dāng)工件與試塊的聲速不同時(shí),儀器的時(shí)基線比例發(fā)生變化,影響缺陷定位精度。
水浸式探頭主要特點(diǎn)是探頭與工件直接接觸,且探頭部分或全部門浸入耦合液中。
當(dāng)探頭的性能不佳時(shí)出現(xiàn)兩個(gè)主聲束,發(fā)現(xiàn)缺陷時(shí)很難判斷是哪個(gè)主聲束發(fā)現(xiàn)的,因此也就難以確定缺陷的實(shí)際位置。
衍射時(shí)差法探傷,當(dāng)有缺陷存在時(shí),在直通波和底面反射波之間,接收探頭會(huì)接收到缺陷處產(chǎn)生的衍射波。