A.液體密度
B.液體粘度
C.液體表面張力
D.液體品質(zhì)
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A.探傷部位的厚度
B.磁極位置,間距
C.外磁場(chǎng)干擾
D.磁化規(guī)范
A.(4~8)D
B.(8~16)D
C.(15~20)D
D.(20~30)D
A.(4~8)D
B.(8~16)D
C.(15~20)D
D.(20~30)D
A.外表面小,內(nèi)表面大
B.外表面大,內(nèi)表面小
C.內(nèi)外表面大,中向小
D.外內(nèi)表面小,中向大
A.相等的
B.縱波大于橫波
C.縱波小于橫波
D.與材料無(wú)關(guān)
最新試題
高溫探頭的外殼與阻尼塊為不銹鋼,電纜為無(wú)機(jī)物絕緣體高溫同軸電纜。
當(dāng)工件內(nèi)應(yīng)力與波的傳播方向一致時(shí),若應(yīng)力為壓縮應(yīng)力,則應(yīng)力作用會(huì)使工件彈性增加,導(dǎo)致聲速減慢。
動(dòng)態(tài)范圍的最小信號(hào)可能受到放大器的飽合或系統(tǒng)噪聲的限制。
對(duì)于比正常縱波底面回波滯后的變形波稱為遲到回波。
水浸聚焦探頭是由外殼、阻尼塊、晶片、聲透鏡等組成。
對(duì)于橫波斜探頭而言,不同K值的探頭的靈敏度不同,因此探頭K值偏差也會(huì)影響缺陷的定量。
衍射時(shí)差法探傷,當(dāng)有缺陷存在時(shí),在直通波和底面反射波之間,接收探頭會(huì)接收到缺陷處產(chǎn)生的衍射波。
儀器時(shí)基線比例一般在試塊上調(diào)節(jié),當(dāng)工件與試塊的聲速不同時(shí),儀器的時(shí)基線比例發(fā)生變化,影響缺陷定位精度。
衍射時(shí)差法對(duì)缺陷的定量依賴于缺陷的回波幅度。
缺陷相對(duì)反射率即缺陷反射聲壓與基準(zhǔn)反射體聲壓之比。