半導(dǎo)體芯片制造工半導(dǎo)體芯片制造中級(jí)工章節(jié)練習(xí)(2019.03.27)

來(lái)源：考試資料網(wǎng)

1.判斷題干法腐蝕清潔、干凈、無(wú)脫膠現(xiàn)象、圖形精度和分辨率高。（）

2.判斷題半導(dǎo)體芯片制造工藝對(duì)水質(zhì)的要求一般.（）

3 恒定表面源擴(kuò)散的雜質(zhì)分布在數(shù)學(xué)上稱為什么分布？（）

4 按蒸發(fā)源加熱方法的不同，真空蒸發(fā)工藝可分為：（）蒸發(fā)、（）蒸發(fā)、離子束蒸發(fā)等。

5.填空題白光照射二氧化硅時(shí)，不同的厚度有不同的（）。

6.判斷題雙極晶體管中只有一種載流子（電子或空穴）傳輸電流。（）

7.判斷題片狀源擴(kuò)散具有設(shè)備簡(jiǎn)單，操作方便，晶片缺陷少，均勻性、重復(fù)性和表面質(zhì)量都較好，適于批量生產(chǎn)，應(yīng)用越來(lái)越普遍。（）

8.填空題工藝人員完成工藝操作后要認(rèn)真、及時(shí)填寫(xiě)工藝記錄，做到記錄內(nèi)容詳細(xì)、（）、（）、書(shū)寫(xiě)工整、（）。

參考答案：真實(shí)；完整；數(shù)據(jù)準(zhǔn)確

9.填空題對(duì)標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計(jì)EDA系統(tǒng)而言，標(biāo)準(zhǔn)單元庫(kù)應(yīng)包含以下內(nèi)容：（）、和（）、（）、（）。

參考答案：邏輯單元符號(hào)庫(kù)；功能單元庫(kù)；拓?fù)鋯卧獛?kù)；版圖單元庫(kù)

10.填空題半導(dǎo)體中的離子注入摻雜是把摻雜劑（）加速到的需要的（），直接注入到半導(dǎo)體晶片中，并經(jīng)適當(dāng)溫度的（）。

參考答案：離子；能量；退火處理