單項(xiàng)選擇題刻蝕過程中的掩膜材料通常要求（）。

A.耐高溫
B.耐刻蝕
C.導(dǎo)電性好
D.以上都是


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1.單項(xiàng)選擇題刻蝕機(jī)的冷卻系統(tǒng)通常采用（）。

A.風(fēng)冷
B.水冷
C.液氮冷卻
D.自然冷卻

2.單項(xiàng)選擇題刻蝕過程中的等離子體密度對(duì)刻蝕效果的影響是（）。

A.密度越高，刻蝕速率越快
B.密度越高，刻蝕選擇性越好
C.密度越高，刻蝕均勻性越差
D.密度越高，刻蝕損傷越大

3.單項(xiàng)選擇題刻蝕機(jī)的真空泵選擇主要依據(jù)（）。

A.抽氣速率
B.極限真空度
C.耐腐蝕性
D.以上都是

4.單項(xiàng)選擇題刻蝕機(jī)的定期校準(zhǔn)周期通常為（）。

A.每天
B.每周
C.每月
D.每年

5.單項(xiàng)選擇題提高刻蝕均勻性的關(guān)鍵在于（）。

A.優(yōu)化氣體分布
B.穩(wěn)定溫度和壓力
C.改進(jìn)掩膜設(shè)計(jì)
D.以上都是