A.將飾面層清除后進(jìn)行檢測(cè)
B.再刷一層飾面層后進(jìn)行檢測(cè)
C.在構(gòu)件表面灑水后進(jìn)行檢測(cè)
D.可不做處理就開(kāi)始檢測(cè)
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A.6V
B.7V
C.8V
D.9V
A.5mm
B.10mm
C.15mm
D.20mm
A.檢查表法
B.破損法檢測(cè)和非破損法檢測(cè)
C.重組法檢測(cè)
D.分解法和重組法檢測(cè)
A.0.01mm
B.0.05mm
C.0.1mm
D.0.12mm
A.7d
B.14d
C.28d
D.56d
最新試題
超差缺陷是否排除,由缺陷挖排人員挖排后直接提出申請(qǐng)、檢驗(yàn)蓋章認(rèn)可后送X光檢測(cè)。
二次打底焊接或重熔排除,無(wú)需辦理相關(guān)手續(xù),直接使用前次的申請(qǐng)手續(xù)。
對(duì)含有內(nèi)穿過(guò)式線(xiàn)圈的薄壁管,影響其阻抗變化的因素有()
送檢產(chǎn)品工序狀態(tài)及表面質(zhì)量應(yīng)符合工藝規(guī)程或工藝處理意見(jiàn)的要求,經(jīng)表面檢驗(yàn)合格,申請(qǐng)單無(wú)需檢驗(yàn)蓋章確認(rèn)。
焊接工藝處理超標(biāo)缺陷必須閱片的主要目的是()。
X光檢驗(yàn)組按復(fù)查清單組織復(fù)查,并出具X光底片復(fù)查報(bào)告,復(fù)查無(wú)遺留問(wèn)題方可進(jìn)行試壓。
下面給出的射線(xiàn)檢測(cè)基本原理中,正確的是()。
像質(zhì)計(jì)放置次數(shù)一般應(yīng)與透照次數(shù)相同,相同部位、相同的透照條件連續(xù)透照時(shí)可適當(dāng)減少放置次數(shù).但不少于透照次數(shù)的三分之一。
對(duì)于圓柱導(dǎo)體的外通過(guò)式線(xiàn)圈,其阻抗變大的情況有()
提出有效磁導(dǎo)率的是下列哪位科學(xué)家()