A.為個(gè)人目的或單純?yōu)樵u(píng)價(jià)、分析、研究、教學(xué)目的而復(fù)制受保護(hù)的布圖設(shè)計(jì)
B.未經(jīng)許可,復(fù)制受保護(hù)的布圖設(shè)計(jì)的全部或任何具有獨(dú)創(chuàng)性的部分
C.在分析研究受保護(hù)的布圖設(shè)計(jì)基礎(chǔ)上,創(chuàng)作出具有獨(dú)創(chuàng)性的布圖設(shè)計(jì)
D.未經(jīng)許可,為商業(yè)進(jìn)口,銷售受保護(hù)的布圖設(shè)計(jì)
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A.保護(hù)期自登記申請(qǐng)日或世界任何地方首次投入商業(yè)利用之日起(以較前日為準(zhǔn))計(jì)算時(shí),布圖設(shè)計(jì)專利權(quán)保護(hù)期為10年
B.布圖設(shè)計(jì)自創(chuàng)作完成之日起算時(shí),保護(hù)期為15年
C.布圖設(shè)計(jì)自登記證書頒發(fā)日起算,保護(hù)期為10年
D.布圖設(shè)計(jì)自產(chǎn)品投入商業(yè)利用日起,保護(hù)期為15年
A.采用常規(guī)設(shè)計(jì)的布圖設(shè)計(jì)
B.布圖設(shè)計(jì)的設(shè)計(jì)思想
C.未經(jīng)登記的布圖設(shè)計(jì)
D.具有獨(dú)創(chuàng)性的布圖設(shè)計(jì)
A.首先把其布圖設(shè)計(jì)在中國(guó)投入商業(yè)利用的外國(guó)人
B.其所屬國(guó)與中國(guó)簽有布圖設(shè)計(jì)保護(hù)協(xié)議的外國(guó)人
C.其所屬國(guó)與中國(guó)參加布圖設(shè)計(jì)保護(hù)國(guó)際條約的外國(guó)人
D.首先在中國(guó)辦理布圖設(shè)計(jì)登記手續(xù)的外國(guó)人標(biāo)
A.中國(guó)自然人
B.中國(guó)法人
C.中國(guó)其他組織
D.其設(shè)計(jì)未在中國(guó)首先投入商業(yè)使用的外國(guó)人
A.以半導(dǎo)體材料為基片
B.至少具有一個(gè)是有源元件的兩個(gè)以上元件
C.部分或全部互連線路集成在基片之中或者基片之上
D.以銅為基片
最新試題
對(duì)外觀設(shè)計(jì)的理解,下面選項(xiàng)哪個(gè)是正確的?()
2001年實(shí)施的新專利法對(duì)我國(guó)原專利法修改的部分有哪些?()
專利標(biāo)記指的是下列哪個(gè)選項(xiàng)?()
檢索用的專利文獻(xiàn)包括下述哪項(xiàng)?()
甲于1999年4月1日向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利局提出一項(xiàng)發(fā)明專利申請(qǐng),公開日為2000年10月1日;乙于2000年4月1日也向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利局提出一項(xiàng)發(fā)明專利申請(qǐng)。下面給出甲乙申請(qǐng)文本的有關(guān)情況,請(qǐng)判斷在下列哪個(gè)選項(xiàng)中,乙的申請(qǐng)不能被批準(zhǔn)?()
在專利法規(guī)中,下述各項(xiàng)哪些是專門針對(duì)實(shí)用新型保護(hù)對(duì)象制定的?()
關(guān)于發(fā)明與實(shí)用新型兩者之間相同之處,哪一選項(xiàng)是正確的?()
對(duì)于分案申請(qǐng)的說(shuō)明書和權(quán)利要求書的要求,下列哪個(gè)選項(xiàng)是正確的?()
專利局因未收到在先專利申請(qǐng)文件副本而對(duì)某申請(qǐng)作出視為未要求外國(guó)優(yōu)先權(quán)決定,申請(qǐng)人可以采用哪種程序和辦法,使該優(yōu)先權(quán)繼續(xù)有效?()
向?qū)@麖?fù)審委員會(huì)請(qǐng)求復(fù)審程序的案件應(yīng)當(dāng)是下述哪項(xiàng)?()