A.直線式
B.橫線式
C.縱線式
D.斜線式
E.平面式
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A.唾液的黏稠度
B.基托磨光面是否光滑
C.基托面積大小
D.基托與黏膜接觸緊密程度
E.唾液的量
A.唇、頰系帶
B.上頜結(jié)節(jié)
C.頰側(cè)翼緣區(qū)
D.上頜硬區(qū)
E.遠(yuǎn)中頰角區(qū)
A.3個(gè)區(qū)
B.4個(gè)區(qū)
C.5個(gè)區(qū)
D.6個(gè)區(qū)
E.8個(gè)區(qū)
A.前顫動(dòng)線
B.腭小凹之前方
C.腭小凹之連接線上
D.腭小凹后1mm
E.腭小凹后2mm
A.后緣位于后顫動(dòng)線之前
B.前緣位于前顫動(dòng)線
C.后堤區(qū)平均寬8mm
D.黏膜彈性較差
E.后堤區(qū)有利于邊緣封閉
A.腭小凹
B.前顫動(dòng)線
C.后顫動(dòng)線
D.翼上頜切跡
E.磨牙后墊
A.面積大
B.牙槽骨致密
C.有堅(jiān)韌的黏膜
D.此處牙槽嵴寬
E.以上均對(duì)
A.牙槽嵴吸收與全身健康狀況有關(guān)
B.牙槽嵴吸收的方向與牙根方向一致
C.上頜牙槽嵴吸收的方向是向上向內(nèi)
D.下頜牙槽嵴吸收的方向是向下向內(nèi)
E.上下頜骨吸收量之比大約是1：4
A.上頜向上吸收，下頜向下吸收
B.上頜向下吸收，下頜向上吸收
C.上頜向上內(nèi)吸收，下頜向下外吸收
D.上頜向上外吸收，下頜向下內(nèi)吸收
E.上頜向下內(nèi)吸收，下頜向上外吸收
A.0.5mm
B.0.8mm
C.1mm
D.1.2mm
E.1.5mm
最新試題
可摘局部義齒中關(guān)于卡環(huán)體與卡環(huán)臂的描述中，正確的是（）
下頜磨牙后墊屬于（）
下頜處于正中頜位時(shí)，上下牙槽嵴頂之間的距離稱為（）
上下牙列最廣泛接觸時(shí)，下頜所處的位置為（）
屬于根內(nèi)固位體的是（）
義齒行硬咀嚼功能的面是（）
與基牙接觸面積最小的卡環(huán)為（）
就位道與脫位道之間形成的角度是（）
主要依靠箱狀洞形固位的修復(fù)體是（）
全口義齒基托不能過(guò)多伸展的是（）