A.冠內(nèi)和冠外附著體均可用在固定義齒中調(diào)整就位道方向
B.冠外附著體的應(yīng)用對基牙大小的要求比冠內(nèi)附著體低
C.冠外附著體的主要作用是固位作用
D.冠內(nèi)附著體可為義齒提供固位、穩(wěn)定、支持作用
E.冠外附著體可用于修復(fù)游離端和非游離端牙列缺損的患者,冠內(nèi)附著體則用于修復(fù)非游離端牙列缺損的患者
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A.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽性結(jié)構(gòu)接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽性結(jié)構(gòu)接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側(cè)壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結(jié)構(gòu)即栓道的軸壁形態(tài)對固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過程中,附著體預(yù)成品,通過包埋、鑄造、研磨等工序,會(huì)影響附著體陰性結(jié)構(gòu)和陽性結(jié)構(gòu)的密合度,影響附著體固位
A.2mm
B.3mm
C.4mm
D.5mm
E.6mm
A.3~8mm
B.3~6mm
C.3~5mm
D.3~4mm
E.齊齦或齦上3mm以內(nèi)
A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.以金屬為鄰面邊緣
C.基牙數(shù)目越多,基托暴露可越多
D.暴露牙周基托可消除基托對邊緣齦的機(jī)械刺激
E.暴露牙周基托增加了基托周圍的菌斑堆積,需加強(qiáng)清潔
A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.無牙區(qū)基托設(shè)計(jì)與傳統(tǒng)總義齒相近
C.可設(shè)計(jì)暴露牙周的基托
D.根帽和基托要作為一個(gè)形態(tài)和功能單位考慮
E.基托與基牙應(yīng)緊密接觸,使基牙能分散咬合力
最新試題
患者下頜為單側(cè)游離缺牙,末端基牙為第一前磨牙,且該牙下存在軟組織倒凹,該基牙卡環(huán)最好設(shè)計(jì)為()
一患者下頜為雙側(cè)游離缺失,基牙及牙槽嵴條件均不理想,為了減小支持組織的負(fù)擔(dān),設(shè)計(jì)時(shí)以下哪個(gè)措施不宜采用()
該患牙的最佳處理方法是()
可摘局部義齒基托組織面不應(yīng)作緩沖的部位是()
上頜骨部分缺損患者要行上頜阻塞器修復(fù),余留牙松動(dòng)Ⅱ度,缺損腔軟組織有倒凹,患者因經(jīng)濟(jì)原因無法支付種植費(fèi)用,最為合適的可利用的固位力為()
對基托的要求不包括()
烤瓷熔附金屬全冠制作前選色,采用Vitapan3D-Master比色順序一般是()
下列減小游離端義齒力的方法中,不正確的是()
下面哪項(xiàng)缺損適合采用平均倒凹法確定就位道()
Ⅱ型觀測線基牙的倒凹區(qū)在()