A.定位平面記錄
B.下頜后退記錄
C.面下1/3高度記錄
D.垂直距離和下頜前伸牙合記錄
E.垂直距離和正中關(guān)系記錄
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.唇側(cè)豐滿度
B.牙合平面
C.垂直頜位關(guān)系
D.前伸髁道斜度
E.水平頜位關(guān)系
A.髁道斜度
B.切導(dǎo)斜度
C.牙尖斜度
D.矢狀牙合曲線曲度
E.定位牙合平面斜度
A.0°
B.25°
C.10°
D.15°
E.30°
A.印模邊緣圓鈍
B.上頜后緣的翼上頜切跡
C.上頜后緣與前顫動(dòng)線一致
D.下頜后緣蓋過(guò)磨牙后墊
E.遠(yuǎn)中舌側(cè)邊緣向遠(yuǎn)中伸展到下頜舌骨后間隙
A.功能印模
B.解剖式印摸
C.加壓印模
D.減壓印模
E.均勻性印模
A.降低咀嚼效率
B.使發(fā)音清晰
C.幫助義齒固位
D.避免咬頰、咬舌
E.增加面部豐滿度
A.義齒翹動(dòng)
B.咀嚼無(wú)力
C.食物積存
D.義齒固位不良
E.咬頰
A.唇、頰系帶
B.磨牙后墊區(qū)
C.下頜舌骨嵴
D.下頜隆突
E.遠(yuǎn)中頰角區(qū)
A.腭小凹稍前方
B.軟腭黏膜部分
C.軟腭與硬腭交界處
D.前顫動(dòng)線與后顫動(dòng)線之間的區(qū)域
E.翼上頜切跡
A.該區(qū)組織柔軟,有一定可讓性
B.后堤區(qū)的后界中部位于腭小凹后
C.后堤區(qū)的外端后緣應(yīng)覆蓋兩側(cè)翼上頜切跡
D.當(dāng)義齒受壓后,該區(qū)組織可隨義齒移動(dòng),達(dá)到良好的封閉作用
E.后堤區(qū)只能在工作模型上形成
最新試題
必須部分放入基牙倒凹內(nèi)的部分是()
能用一側(cè)牙吃飯,用對(duì)側(cè)牙咀嚼則一側(cè)翹起()
義齒基托折斷修理時(shí)最常采用()
義齒在此處不能較多伸展的是()
平時(shí)義齒不掉,進(jìn)食時(shí)義齒易脫位()
患者鼻唇溝變淺,頦部前突的原因是()
對(duì)牙髓刺激性小的粘固()
調(diào)和初期酸性較強(qiáng)的是()
全口義齒排牙時(shí)前牙覆牙合過(guò)深,而Spee曲線曲度過(guò)平,則常會(huì)導(dǎo)致()
屬于邊緣封閉區(qū)的是()