A.頰屏的上頜部分與齒槽間有3mm的間隙
B.唇擋截面呈淚滴壯,上緣厚下緣薄
C.唇擋下緣在齦上至少7.5mm
D.下唇擋是為了消除下唇對下頜的壓力
E.唇擋和頰屏的厚度不超過2.5mm
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A.300g以上力
B.350g以上力
C.400g以上力
D.500g以上力
E.800g以上力
A.50g力
B.100g力
C.200g力
D.150g力
E.300g力
A.主要用于矯正長度不調(diào)
B.可以用于矯正后牙寬度不調(diào)
C.最適宜于青春生長進發(fā)期1~2年開始
D.主要用于恒牙早期
E.不適用于牙列擁擠者
A.個別錯位牙的矯治
B.擴大牙弓
C.糾正頜間關(guān)系的異常
D.修復(fù)前的正畸治療
E.嚴(yán)重?fù)頂D者
A.目的是扎刺舌頭防止前伸
B.息止頜位時延伸至下牙舌面
C.尖端應(yīng)圓鈍
D.常設(shè)計6~7根
E.需于上前牙舌側(cè)離基托邊緣2~3mm處伸出
最新試題
放置在上下前牙舌面隆突上的連續(xù)卡環(huán)稱()
增加磨牙支抗的力是()
骨性Ⅲ錯ANB角為()
造成右側(cè)后牙反,左側(cè)有大量牙垢的原因()
1955年毛燮均教授等以理想為標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查統(tǒng)計錯患病為率()
增加磨牙支抗時,口外弓每日戴用時間為()
最后孤立化傾斜的磨牙上應(yīng)設(shè)計的卡環(huán)是()
將多個基牙的唇頰側(cè)卡環(huán)連接在一起,兩端均包埋在基托內(nèi),無游離卡環(huán)臂的為()
我國遺傳因素占錯畸形的()
抑制上頜生長的力是()