A.6mm
B.8mm
C.10mm
D.15mm
E.以上均不正確
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A.托盤寬度比牙槽嵴寬2~3mm
B.托盤邊緣高度應(yīng)離開黏膜皺襞2~3mm
C.上頜托盤腭側(cè)至顫動線后3~4mm
D.托盤若邊緣稍短時,可用蠟片或印模膏加長
E.以上均是
A.上尖牙唇面與腭皺的側(cè)面通常相距約1cm
B.上頜第一前磨牙牙長軸垂直,頰、舌尖均與牙合平面接觸
C.上頜第二前磨牙頰尖與牙合平面接觸,舌尖高于牙合平面約1mm
D.上頜第一磨牙遠(yuǎn)中頰尖高于牙合平面約1mm
E.上頜第二磨牙近中頰尖高于牙合平面約1.5mm
A.鉸鏈?zhǔn)窖篮霞苤荒芾@鉸鏈軸旋轉(zhuǎn)作上下開閉運(yùn)動
B.平均值牙合架可近似模擬前伸和側(cè)方咬合接觸滑動運(yùn)動(前伸髁導(dǎo)25°,側(cè)方髁導(dǎo)15°)
C.半可調(diào)牙合架髁導(dǎo)和切導(dǎo)斜度均可調(diào),可模擬迅即側(cè)移等下頜運(yùn)動特征
D.全可調(diào)牙合架可利用運(yùn)動面弓將患者下頜三維運(yùn)動特征轉(zhuǎn)移至牙合架
E.HanauH型牙合架屬于半可調(diào)牙合架
A.上下頜前庭溝底
B.前、后顫動線間的弓形區(qū)域
C.唇頰舌系帶附著部
D.上頜結(jié)節(jié)頰側(cè)
E.下頜磨牙后墊
A.下頜后牙游離缺失,如果末端基牙向后傾斜,模型應(yīng)向后傾斜,增加末端基牙遠(yuǎn)中倒凹
B.后牙非游離缺失,應(yīng)根據(jù)基牙的健康程度來決定模型向前或向后傾斜
C.一側(cè)缺牙多,另一側(cè)缺牙少,應(yīng)將模型向牙齒多側(cè)傾斜,從缺牙多側(cè)向缺牙少側(cè)戴入
D.前后牙均有缺失,前牙倒凹較大時,將模型向后傾斜,就位道由前向后,使前牙倒凹減小
E.調(diào)節(jié)倒凹法設(shè)計(jì)的就位道,適用于基牙牙冠短,基牙長軸彼此近似平行者
A.功能運(yùn)動時要使鄰面板與基牙保持接觸,增大摩擦力
B.位于遠(yuǎn)中的鄰面板向上不能越過外形高點(diǎn)線
C.RPI組合卡環(huán)不能在近中傾斜的基牙上使用
D.牙體導(dǎo)平面預(yù)備時,可以保留小的齦區(qū)倒凹
E.導(dǎo)平面板可以連接穩(wěn)定牙弓,有助于使孤立牙達(dá)到穩(wěn)定
A.圈形卡環(huán)
B.雙臂卡環(huán)
C.回力卡環(huán)
D.對半卡環(huán)
E.倒鉤卡環(huán)
A.骨突起的位置和嚴(yán)重程度
B.覆蓋骨突起區(qū)軟組織的性質(zhì)
C.義齒由基牙提供支持的程度及剩余牙槽嵴提供的支持特性
D.大連接體的設(shè)計(jì)
E.固位體的設(shè)計(jì)
A.位于鑄圈上部的2/5處
B.位于鑄圈下部的2/5處
C.位于鑄圈上部的1/5處
D.位于鑄圈下部的1/5處
E.位于鑄圈中部
A.冷卻過程中的收縮
B.復(fù)制模型材料的影響
C.熔模在鑄型中位置的影響
D.鑄件的冷卻方法
E.以上均是
最新試題
固定橋粘固后當(dāng)日出現(xiàn)過敏性疼痛,該癥狀可能的原因不包括()。
鑄件研磨、拋光中應(yīng)遵循的原則是()。
瓷全冠的內(nèi)層冠厚度應(yīng)為()。
全冠用滴蠟法恢復(fù)頜面形態(tài)時,常分為()。
患者固定義齒戴用3個月后,修復(fù)體齦緣處齦組織充血,水腫疼痛,易出血。主要原因不包括()。
矯治咬上唇的不良習(xí)慣,通常采用的方法是()。
為了避免頸緣顯灰線(染色),最好選用的合金為()。
機(jī)器調(diào)拌石膏時,在真空狀態(tài)下的攪拌時間應(yīng)為()。
制作底冠蠟型的要點(diǎn)中,錯誤的是()。
可摘局部義齒修理后最容易折斷的情形是()。