A.上皮無(wú)角化,黏膜下層致密
B.高度角化的單層上皮,黏膜下層致密
C.高度角化的復(fù)層鱗狀上皮,黏膜下層肥厚
D.高度角化的復(fù)層鱗狀上皮,黏膜下層致密
E.高度角化的復(fù)層鱗狀上皮,黏膜下層菲薄
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A.位于硬腭、軟腭連接處
B.腭中縫兩側(cè)對(duì)稱的兩個(gè)小凹
C.是黏液導(dǎo)管的開(kāi)口
D.位于全口義齒基托后堤區(qū)內(nèi)
E.上頜全口義齒基托后緣應(yīng)終止于此
A.下頜后退
B.下頜偏斜
C.前牙開(kāi)
D.與架上完成排牙狀態(tài)一樣
E.垂直距離增高
A.卷舌后舔法
B.息止頜位法
C.肌肉疲勞法
D.吞咽咬合法
E.哥特弓描記法
A.義齒下頜第一磨牙的面應(yīng)與磨牙后墊的1/2等高
B.義齒下頜第二磨牙遠(yuǎn)中邊緣應(yīng)位于磨牙后墊前緣之后
C.磨牙后墊頰面、舌面向前與下頜尖牙的近中面形成一個(gè)三角形,一般義齒下頜后牙的頰尖應(yīng)位于此三角內(nèi)
D.下頜全口義齒后緣應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊1/2或全部
E.義齒下頜第一磨牙遠(yuǎn)中邊緣應(yīng)位于磨牙后墊前緣
A.會(huì)有異物感、發(fā)音不清等,要堅(jiān)持戴用
B.先進(jìn)食小塊軟食
C.避免咬硬物
D.可能有疼痛,要堅(jiān)持戴用
E.盡量用兩側(cè)后牙同時(shí)咀嚼
最新試題
提示:取得印模后,通常采用戊二醛、次氯酸鈉、碘伏等到消毒劑對(duì)印模進(jìn)行消毒。2%戊二醛浸泡適用于哪些印模消毒()
接下來(lái)最需要做的工作是()
提示:軸壁合向聚合度過(guò)大,會(huì)使固位力大大降低。正常情況下,軸面合聚合度的合理度數(shù)為()
以下是最佳治療方案的是()
提示:牙體預(yù)備時(shí),應(yīng)在一定的范圍內(nèi)磨切組織。臨床上牙體預(yù)備,不應(yīng)涉及的組織有哪些()
取模時(shí)最理想的印模材料為()
若要修復(fù),應(yīng)采取的設(shè)計(jì)是()
患者修復(fù)前不需考慮()
樁核唇側(cè)至少應(yīng)為金屬烤瓷冠留出的間隙為()
提示:修復(fù)體為烤瓷全冠,合面瓷部分崩裂,粘結(jié)面可見(jiàn)較厚的粘結(jié)劑。基牙預(yù)備體合齦高度3mm,近遠(yuǎn)中軸面基本平行,頰舌軸面合向聚合度約15度。頸緣平齦緣,肩臺(tái)為羽狀肩臺(tái)。合面與對(duì)合牙間有1mm間隙。齲損為近中鄰合缺損,可見(jiàn)樹(shù)脂充填物。全冠修復(fù)體脫落的可能原因有哪些()