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A.0.8-1.2
B.1-1.5
C.1.5-2
D.2-2.5
A.15°
B.30°
C.61°
D.45°
E.45°或61°
A.石英晶體發(fā)射,鈦酸鋇晶體接收
B.鈦酸鋇晶體發(fā)射,硫酸鋰晶體接收
C.硫酸鋰晶體發(fā)射,鈦酸鋇晶體接收
D.鈦酸鋇晶體發(fā)射,石英晶體接收
A.0.8mm
B.1.25mm
C.1.6mm
D.0.4mm
最新試題
圖所示的標準試件可用來測定()。
當激勵電壓加于一次繞組時,只有磁通量是同相的,且二次磁通量較小。當試驗物體插入該線圈時,將發(fā)生什么情況()。
下面哪種是圍繞線圈在導體中感應出的渦流的一個性質()。
試驗線圈激勵電流應保持恒定,這樣用渦流系統(tǒng)得到的試件信息()。
分析底片上出現(xiàn)白色(黑度低于周圍焊縫或母材的黑度)缺陷影像的原因?
新置的Ir192γ射線源,其活度為40Ci,現(xiàn)今時隔300天,已知,Ir192γ射線源的半衰期為75天。求該源現(xiàn)在的活度?該源新置時,對某工件進行射線照相的曝光時間為4min,若所有條件不變,現(xiàn)今應曝光多少分鐘?
以通有交流電的圓筒型線圈中放有長導電圓柱體試件為例,簡述福斯特模型的基本內容。說明什么叫做有效磁導率?并寫出其數(shù)學表達式。
阻抗圖中,實線曲線是什么值不同的曲線()。
用××2005型×光機180KV管電壓透照Φ51*3.5的管子環(huán)焊縫,已知焊縫寬度b=10mm,焦點尺寸3*3,試求①滿足Ug=3Ui,橢圓開口間距g=5mm時的透照距離L1和透照偏移距離S(設Ui=0.0013V0.8,膠片離管子底面距離3mm)②若透照距離L1=800mm,則此時Ug為Ui的幾倍?
寫出VC-S滲透探傷的工藝流程。