A、鐵離子含量高
B、懸浮物增多
C、油污帶入
D、雜質(zhì)帶入
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A、100℃
B、102℃
C、104℃
D、106℃
A、5ppm
B、10ppm
C、15ppm
D、20PPm
A、排出高堿度的水
B、排出爐水中的固體懸浮物
C、輔助控制鍋爐液位
A、節(jié)約設(shè)備使用面積
B、促進(jìn)爐水循環(huán)
C、利于汽水分離
D、防止給水泵發(fā)生汽蝕
A、溫度
B、壓力
C、水氣比
D、催化劑活性
最新試題
活塞式壓縮機(jī)冷卻系統(tǒng)一般包括()部分。
加氫反應(yīng)器主要分為有隔熱襯里的冷壁反應(yīng)器和無隔熱襯里的熱壁反應(yīng)器兩種,現(xiàn)在多數(shù)采用的是熱壁反應(yīng)器。
在裝填加氫催化劑前,若發(fā)現(xiàn)直徑小于0.85mm的催化劑和細(xì)粉含量大于0.5m%時(shí),則應(yīng)在裝填前重新過篩。
鍋爐汽包玻璃板液位計(jì)在破碎后應(yīng)及時(shí)更換,更換后鍋爐汽包液位劑后即可立即投用監(jiān)視汽包液位。
管式加熱爐一般由輻射室、對流室、余熱回收系統(tǒng)、燃燒及通風(fēng)系統(tǒng)及煙囪六部分組成。
集散控制系統(tǒng)又稱分散控制系統(tǒng),它是以微型計(jì)算機(jī)為基礎(chǔ)的,將顯示操作部分高度集中,而將控制部分分散的一種控制系統(tǒng)。
分散控制系統(tǒng)(DCS)一般由過程輸入/輸出接口單元、過程控制單元CRT操作站、高速數(shù)據(jù)通道四部分組成。
鍋爐系統(tǒng)生產(chǎn)時(shí)汽包出現(xiàn)虛假液位主要是由給水量與蒸汽量之間的物料平衡關(guān)系破壞所引起的。
管式轉(zhuǎn)化爐是以輕烴為原料,用蒸汽轉(zhuǎn)化法生產(chǎn)氫氣或合成氨原料的一種加熱爐。其輻射段是原料氣在轉(zhuǎn)化管內(nèi)進(jìn)行轉(zhuǎn)化的反應(yīng)部分,管外由燃料供熱;對流段是高溫?zé)煔獾挠酂峄厥詹糠帧?/p>
鍋爐系統(tǒng)中,連續(xù)排污也叫表面排污,其作用主要是排出爐水中的固體雜質(zhì)和松散的水渣。