A.橫座標(biāo)表示工件的透照厚度
B.縱座標(biāo)(對(duì)數(shù)座標(biāo))表示曝光量(毫安與時(shí)間的乘積)
C.用一組斜線表示相應(yīng)的管電壓值時(shí)的透照厚度和曝光量之間的關(guān)系
D.以上都對(duì)
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.X射線機(jī)、照相的焦距、底片黑度、所使用的膠片和增感屏、射線能量
B.X射線機(jī)、照相的焦距、底片黑度、所使用的膠片和增感屏、曝光量
C.X射線機(jī)、照相的焦距、底片黑度、所使用的膠片和增感屏、透照厚度
D.X射線機(jī)、照相的焦距、底片黑度、所使用的膠片和增感屏、暗室處理的工藝條件
A.膠片類型
B.射線能量
C.曝光量
D.透照厚度
A.應(yīng)增大管電流
B.應(yīng)減小管電流
C.試樣應(yīng)遠(yuǎn)離膠片
D.降低加于射線管的電壓:
A.在實(shí)際的射線照相檢驗(yàn)中,確定焦距最小值常采用諾模圖
B.幾何不清晰度的要求限定了焦距的最小值
C.在采用雙壁單影法透照環(huán)縫時(shí),往往選擇較大的焦距
D.實(shí)際透照時(shí)一般并不采用最小焦距值,所用的焦距比最小焦距要大得多
A.滿足射線照相對(duì)幾何不清晰度的要求
B.滿足射線照相對(duì)固有不清晰度的要求
C.選取的焦距應(yīng)給出射線強(qiáng)度比較均勻的適當(dāng)大小的透照區(qū)
D.幾何不清晰度的要求限定了焦距的最小值
最新試題
射線照相法適宜檢測(cè)的材料是()
X射線管焦點(diǎn)有效面積取決于()
下列哪種不是射線照相法的特點(diǎn)()
核力與下列哪種因素?zé)o關(guān)()
雙壁單影透照環(huán)焊縫時(shí),不滿足Ug要求下,應(yīng)選擇較小焦距,這是為了()
對(duì)于螺栓的檢測(cè),不適用的無(wú)損檢測(cè)方法是()
X射線的強(qiáng)度與下面哪個(gè)參數(shù)有關(guān)()
有關(guān)射線膠片特性的敘述,正確的是()
在射線照相檢測(cè)中,當(dāng)提高射線能量時(shí)可能發(fā)生的是()
在射線檢測(cè)中,下列哪一種裂紋最難檢測(cè)()