A、射源結(jié)實(shí),不易發(fā)生故障
B、體積小,易于攜帶
C、設(shè)備無(wú)需電源及冷卻系統(tǒng)
D、射源強(qiáng)度無(wú)法予以調(diào)節(jié)
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A、核燃料
B、核原料
C、核材料
D、除以上三類(lèi)以外的其他放射性物質(zhì)
A、X射線機(jī)
B、加速器
C、中子發(fā)生器
D、以上都是
A、設(shè)備簡(jiǎn)單
B、不需外部電源
C、射源體積小
D、以上都是
A、將會(huì)產(chǎn)生相同強(qiáng)度與品質(zhì)的輻射線
B、將會(huì)產(chǎn)生相同強(qiáng)度,但輻射品質(zhì)不同
C、將會(huì)產(chǎn)生相同的輻射品質(zhì),但強(qiáng)度不同
D、輻射品質(zhì)與強(qiáng)度均不同
A、軟X射線機(jī)
B、鈹窗口X射線機(jī)
C、微焦點(diǎn)X射線機(jī)
D、以上都是
最新試題
關(guān)于聲波的指向性和指向角,正確的是()
射線經(jīng)過(guò)一個(gè)半價(jià)層后,其()衰減一半。
化學(xué)清洗用于去除工件表面的()
在射線照相時(shí),像質(zhì)計(jì)應(yīng)放置在()
散射比的大小與()因素有關(guān)。
關(guān)于近場(chǎng)長(zhǎng)度的說(shuō)法,正確的是()
采用X射線機(jī)對(duì)某一工件探傷時(shí),焦距為1m,曝光時(shí)間為6min,其余條件均不變,曝光時(shí)間改為3min時(shí)透照焦距應(yīng)改為()
射線照像底片上產(chǎn)生黑色樹(shù)枝狀花紋的原因是()
直射法探傷時(shí)試件的探測(cè)面應(yīng)選在與缺陷最大表面()
焊縫斜探頭探傷時(shí)儀器示波屏?xí)r間軸按1:1調(diào)整后,其始波前沿()