A、增大源到膠片距離
B、采用較厚的鉛增感屏
C、使用速度快的膠片
D、縮短曝光時(shí)間
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你可能感興趣的試題
A、測(cè)量中心射線(xiàn)的強(qiáng)度
B、過(guò)濾散射線(xiàn)
C、測(cè)定焦點(diǎn)的大致尺寸
D、測(cè)量軟化X射線(xiàn)的能量
A、鈷60
B、伽瑪射線(xiàn)
C、300KV以上X光機(jī)
D、300KV以下X光機(jī)
A、X光焦點(diǎn)尺寸
B、底片透光度
C、缺陷大小
D、以上都對(duì)
A、增加射源至物件的距離
B、增加增感屏厚度
C、減少曝光時(shí)間
D、增加曝光時(shí)間
A、散熱效果良好
B、底片清晰度良好
C、不要有實(shí)際焦點(diǎn)
D、X光穿透力良好
最新試題
超聲縱波以590000cm/s的速度穿過(guò)29.5mm厚的工件,所需時(shí)間為()
選擇滲透探傷方法時(shí),對(duì)于疲勞裂紋、磨削裂紋及其它微小裂紋應(yīng)優(yōu)先選用()
鐵磁材料達(dá)到居里點(diǎn)時(shí),會(huì)發(fā)生什么現(xiàn)象()
脈沖反射法A型顯示取得缺陷信息是根據(jù)()
底片干燥時(shí),一般不得超過(guò)60℃,是因?yàn)椋ǎ?/p>
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直射法探傷時(shí)試件的探測(cè)面應(yīng)選在與缺陷最大表面()
散射比的大小與()因素有關(guān)。