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單項(xiàng)選擇題一定曝光量所需的曝光時(shí)間T與射源至底片的距離D的關(guān)系應(yīng)為（）。

A. t₂/t₁=D₁₂/D₂₂
B. t₁/t₂=D₁₂/D₂₂
C. t₂/t₁=D₁/D₂
D. t₁/t₂=D₁/D₂

1.單項(xiàng)選擇題使用鉛箔增感，透照某工件采用15mA。2min曝光得到滿意結(jié)果，若其他條件不變，改為5mA，則曝光時(shí)間應(yīng)為（）。

A. 4 min
B. 6 min
C. 10 min
D. 15min

2.單項(xiàng)選擇題X射線照相檢測(cè)工藝參數(shù)主要是（）。

A.焦距
B.曝光時(shí)間
C.管電壓
D.以上都是

3.單項(xiàng)選擇題射線透照厚度1.25in的鑄件，射線底片上顯示出ASTM20#像質(zhì)計(jì)的2T孔，則該底片的當(dāng)量靈敏度為（）。

A. 0.8%
B. 1.6%
C. 2.4%
D. 3.2%

4.單項(xiàng)選擇題常用的像質(zhì)計(jì)是（）。

A. 槽式像質(zhì)計(jì)
B. 線形像質(zhì)計(jì)
C. 孔形像質(zhì)計(jì)
D. 以上都是

5.單項(xiàng)選擇題射線探傷時(shí)，使用像質(zhì)計(jì)的主要目的是（）。

A.測(cè)量缺陷的大小
B.測(cè)量缺陷的位置
C.測(cè)量缺陷的幾何不清楚度
D.確定底片的彩像質(zhì)量