我國常采用的中頻加熱設(shè)備的輸出頻率為（）

滲碳的目的是提高表面（）

珠光體轉(zhuǎn)變是（）轉(zhuǎn)變。

熱處理時具體溫度下所得到的奧氏體晶粒大小稱為（）

氣體滲碳的常用滲碳溫度為（）℃。

NaCl水溶液作淬火介質(zhì)時，常用的濃度為（）

不同的材料，產(chǎn)生的熱電動勢（），利用這種原理制造熱電偶。

晶體內(nèi)部的原子是按照一定的規(guī)律排列的，稱為（）

珠光體轉(zhuǎn)變溫度越高則片距（）

從淬硬的工件表面量至規(guī)定硬度值處的距離稱為（）