A.界面兩側(cè)介質(zhì)的聲速
B.界面兩側(cè)介質(zhì)的衰減系數(shù)
C.界面兩側(cè)介質(zhì)的聲阻抗
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A.約等于近場長度
B.約等于近場長度的0.6倍
C.約等于近場長度1.6倍
A.6db
B.12db
C.9db
D.3db
A.基層
B.乳化劑
C.高基層
D.保護(hù)層
A.近場區(qū)
B.遠(yuǎn)場區(qū)
C.聲束擴(kuò)散角以外區(qū)
D.儀器阻塞時(shí)間
A.顯示器
B.接收器
C.標(biāo)準(zhǔn)電路
D.同步電路
最新試題
動態(tài)范圍的最小信號可能受到放大器的飽合或系統(tǒng)噪聲的限制。
水浸式探頭主要特點(diǎn)是探頭與工件直接接觸,且探頭部分或全部門浸入耦合液中。
由于圓柱形工件有一定的曲率,直探頭與工件直接接觸時(shí),接觸面為一條很寬的條形區(qū)域,從在而在圓柱的橫截面內(nèi)會產(chǎn)生強(qiáng)烈的聲束擴(kuò)散。
橫波檢測平板對接焊縫根部未焊透等缺陷時(shí),不同K值探頭檢測同一根部缺陷,其回波高相差不大。
缺陷垂直時(shí),擴(kuò)散波束入射至缺陷時(shí)回波較高,而定位時(shí)就會誤認(rèn)為缺陷在軸線上,從而導(dǎo)致定位不準(zhǔn)。
檢測曲面工件時(shí),探頭與工件接觸有兩種情況,一是平面與曲面接觸,另一種是將探頭斜楔磨成曲面,探頭與工件曲面接觸。
液浸法探傷是使探頭發(fā)射的超聲波經(jīng)過一段液體后再進(jìn)入試件的檢測的方法。
水浸聚焦探頭是由外殼、阻尼塊、晶片、聲透鏡等組成。
為了減少側(cè)壁的影響,必要時(shí)可采用試塊比較法進(jìn)行定量,以便提高定量精度。
高溫探頭的外殼與阻尼塊為不銹鋼,電纜為無機(jī)物絕緣體高溫同軸電纜。